CQ9电子奥伦德申请基于镓铝砷外延合金及其制备方法专利改善金属层与外延层之间的欧姆接触金融界2024年10月9日消息，国家知识产权局信息显示，深圳市奥伦德元器件有限公司申请一项名为“种基于镓铝砷外延合金及其制备方法”的专利CQ9电子，公开号CN 118745572 A，申请日期为2024年7月。

　　专利摘要显示CQ9电子，本发明涉及一种基于镓铝砷外延合金及其制备方法，包括：镓铝砷外延层；第一氧化层，第一氧化层包括多个经一次光刻形成的第一窗口和第一凸块，第一窗口与所述第一凸块间隔分布；第一金属层；第二氧化层，第二氧化层包括多个经二次光刻形成的第二窗口和第二凸块，第二窗口与所述第二凸块间隔分布，第一窗口与第二窗口的垂直方向上错位排列；第二金属层。基于镓铝砷外延合金通过高致密性的氧化层去改善镓铝砷外延与金属层接触的合金方法，具有优良的金属与镓铝砷材料键合性能，改善金属层与外延层之间的欧姆接触CQ9电子，降低电极脱落的风险。